中文名称 ---【知识产权法评论】

基本信息
中文名称 知识产权法评论
英文名称 Review of Intellectual Property Law
类别 学术期刊;
国别 美国
语言 英文
中文关键词 美国;知识产权法;评论;期刊
英文关键词 America;intellectual property law;review;journal
发布机构 约翰马歇尔法律学校
中文摘要 知识产权法评论期刊(RIPL)由约翰马歇尔法律学校于2002年出版,是一份关注知识产权法律评论的电子期刊。期刊是由约翰马歇尔的学生在认识到社会对知识产权法律评论的需要的情况下谋划创办的,其出版得到了约翰马歇尔法律学校这一在知识产权法律领域有着传统优势的学校教授的指导。期刊内容包括了专利、商标、版权在内所有知识产权领域,主要刊登有一定学术价值的文章。文章的主题丰富多样,例如知识产权许可与反垄断的关系、专利法律改革、商标法发展、知识产权法庭的决议等都是期刊选材。
英文摘要 The John Marshall Review of Intellectual Property Law published by the John Marshall Law School from 2002 is an electronic law review focused on intellectual property issues. RIPL was the brainchild of a group of enterprising John Marshall students who saw the need for a law review focused on intellectual property issues. RIPL and its editors are an addition to this long tradition of the study of intellectual property law at The John Marshall Law School.RIPL seeks to publish scholarly articles on topics involving all aspects of intellectual property, including patent, trademark, copyright and trade secret law.The articles cover a variety of topics, including for instance the myriad of issues inherent in intellectual property licensing and antitrust, patent law reform, the right of publicity, the evolution of the written description requirements for patents, and recent developments in trademark law.

 



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